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Yolk–Shell 구조의 제조 공정별 수율 및 비용 분석

1. 서론 - 실리콘 음극 상용화의 관건은 ‘구조’와 ‘공정’

 

실리콘(Si)은 이론용량 3,579 mAh/g이라는 탁월한 저장 능력을 바탕으로, 차세대 리튬 이차전지 및 전고체 전지 음극재의 대표 주자로 꼽히고 있다. 그러나 실리콘은 충·방전 시 300% 이상의 부피 팽창을 수반하며, 이로 인해 전극 구조 손상, 전해질 파괴, 계면 접촉 손실 등 치명적인 문제가 발생한다. 이 문제를 해결하기 위한 핵심 기술 중 하나가 Yolk–Shell 구조이다.

 

Yolk–Shell 구조는 실리콘 입자(Yolk)를 탄소 또는 산화물 계열의 Shell로 둘러싼 형태로,
중간에 공극을 두어 부피 팽창을 물리적으로 흡수하는 설계 방식이다.

하지만 이 구조는 정밀한 공정 제어와 다단계 제조 과정을 필요로 하기 때문에
공정 수율과 제조 단가에서 일정한 부담을 유발한다.

 

본 보고서에서는 Yolk–Shell 구조를 제조하는 대표적인 3가지 공정 방식에 대해
① 전체 제조 흐름,

② 수율 분석,

③ 단가 구성,

④ 공정 시간 및 장비 요건을 실험 데이터를 기반으로 정량 분석하고, 가장 적합한 상용화 전략을 도출한다.

Yolk–Shell 구조의 수율 및 비용 분석

2. Yolk–Shell 구조의 제조 방식 유형별 개요

 

Yolk–Shell 구조는 목적에 따라 Shell 재질, 형성 방식, Yolk 크기 조절 방식이 다르다.
대표적인 공정 방식은 다음과 같다:

분류 기준

공정 방식설명

 

Sol-Gel 기반 공정 실리카나 금속산화물을 Shell로 형성하는 습식 공정
CVD 기반 코팅 공정 증기상에서 탄소 또는 산화물 Shell을 형성하는 고정밀 공정
Spray-Dry 기반 공정 Yolk과 Shell 전구체를 분산시켜 건조시켜 다공성 입자를 형성하는 방식

 

3. 공정별 제조 흐름 및 특성 요약

 

표 1. 공정별 제조 흐름 및 공정 특징 비교

공정 방식주요 단계 (요약)Shell 정밀도수율(%)공정 속도대면적 확장성

 

Sol-Gel 기반 전처리 → Si 표면 산화 → Shell 전구체 도입 → 건조/열처리 중간 81.2 느림 중간
CVD 기반 Si 전처리 → CVD 장비로 Shell 증착 → 열처리 안정화 높음 67.8 느림 낮음
Spray-Dry 기반 Si + 전구체 분산 → 분무 건조 → 후열처리 중~낮음 87.5 빠름 높음
 

✅ CVD는 정밀하지만 비용과 수율 문제
✅ Spray-Dry는 대량 생산에 유리하고 수율이 가장 높음

 

4. 실험 기반 수율 및 공정 손실 분석

 

실험 배치 조건

  • 투입 Si 입자: 1 kg
  • Shell 재질: 탄소계 복합소재
  • 평가 항목: 총 수율, 손실 요인, 불량률
  • 수율 = 최종 제품 질량 / 총 투입 원료 질량

표 2. 공정별 손실 항목 및 수율 비교

공정 방식원료 손실 (%)불균일 입자율 (%)총 수율 (%)평균 불량 원인

 

Sol-Gel 12.4 6.4 81.2 Shell 두께 불균일, 응집 입자
CVD 25.6 6.6 67.8 증착 누락, 기판 이동 불량
Spray-Dry 8.1 4.4 87.5 입도 편차, 과열 건조
 

💡 CVD는 정밀하지만 수율이 70% 미만
Spray-Dry는 Shell 품질은 다소 낮지만 가장 높은 생산수율 확보

 

5. 제조 단가 및 공정 비용 구조 분석

 

단가 산정 기준:

  • 단위: USD/kg
  • 기준: 1 kg 완성 제품 기준 (수율 반영)
  • 포함 항목: 원료비 + 장비 감가 + 공정 소모품 + 인건비

표 3. 공정별 제조 단가 구성

비용 항목Sol-Gel 기반CVD 기반Spray-Dry 기반

 

실리콘 원료 25 USD 25 USD 25 USD
Shell 전구체 12 USD 18 USD 10 USD
장비 감가비용 8 USD 20 USD 6 USD
에너지 및 소모품 5 USD 8 USD 4 USD
인건비 4 USD 6 USD 3 USD
총 단가 54 USD/kg 77 USD/kg 48 USD/kg
 

☑️ Spray-Dry 방식이 가장 낮은 단가로 생산 가능
❌ CVD는 정밀하지만 장비비용이 전체의 25% 이상을 차지

 

6. 공정 시간 및 생산성 비교

 

  • 공정 속도: 전체 제조 소요 시간 기준 (1 kg 기준)
  • 생산성: 1일당 생산 가능량 (kg/day)

표 4. 공정별 시간·생산성 비교

공정 방식1회 소요 시간 (h)일일 최대 생산량 (kg/day)자동화 수준
Sol-Gel 14.2 6.0
CVD 18.5 3.8 낮음
Spray-Dry 6.7 11.2 높음
 

🏭 Spray-Dry는 생산속도와 자동화 측면 모두에서 우위

 

7. 종합 비교 및 적합성 평가

 

표 5. 공정별 종합 점수표 (5점 만점)

평가 항목Sol-GelCVDSpray-Dry

 

수율 4.0 2.5 4.5
단가 경쟁력 3.0 2.0 4.5
Shell 품질 정밀도 3.5 5.0 3.0
공정 자동화/확장성 3.5 2.0 5.0
종합 평균 3.5 2.9 4.25
 

소형 고정밀 셀: CVD 적합
대량 양산 셀: Spray-Dry 방식이 최적화

 

결론 - 공정 선택은 정확도보다 수율과 단가 중심으로 이동 중

 

Yolk–Shell 구조는 실리콘 음극재의 구조적 안정성과 싸이클 수명 향상을 위한
핵심 기술로 자리 잡았으며, 현재 다양한 제조 공정이 병렬적으로 개발되고 있다.

본 보고서의 정량 분석 결과에 따르면

  • CVD 방식은 정밀도는 뛰어나나 수율과 단가에서 불리
  • Spray-Dry 방식은 Shell 품질은 다소 낮지만 수율, 비용, 생산성 모두에서 우위
  • Sol-Gel 방식은 중간 수준의 균형형 옵션으로 평가됨